Мы представили 6-дюймовый алмазный бланк CVD с использованием высокомощного микроволнового плазменного химического осаждения 915 МГц (MPCVD). Этот процесс ионизирует углерод-содержащие газы (такие как метан) и водород через микроволны, что позволяет осаждать ионы углерода на подложках, таких как алмаз, кремний или молибденовые пластины. Это приводит к гомоэпитаксиальному или гетероэпитаксиальному росту монокристаллических или поликристаллических алмазных пленок высокой чистоты.
Благодаря нашему фирменному программному обеспечению для цифрового управления мы можем точно определять и регулировать условия роста алмаза, что позволяет масштабировать производство монокристаллических или поликристаллических алмазов с различными спецификациями и параметрами.
Наши преимущества:
Более высокая термальная проводимость & минимальное загрязнение: Наш процесс уменьшает источники загрязнения внутри камера, водя к более низкому загрязнению металла, более высокой очищенности, и равномерной поверхностной зернистости. Теплопроводность нашего алмаза превосходит проводимость других методов изготовления.
Более высокая эффективность производства: выходная мощность на единицу нашего оборудования 915 МГц в 3-4 раза выше, чем у обычных систем 2,45 ГГц, что позволяет экономически эффективно адаптировать их к нисходящим приложениям и снижает общую стоимость производства устройств на основе алмазов.
This is the first one.
